一、主要用途：用途保密。二、技術(shù)指標：??1、整機漏率1*10-10Pa.m3/s；??2、球形真空室：尺寸約為Φ700，三個(gè)弧源，一個(gè)離子源；??3、轉靶靶臺與真空室絕緣，耐壓值大于1000V；??4、真空室是非磁性材料；??5、工件架五套：二套平面、二套柱面、一套斜面；??6、實(shí)現電控控制功能。三、系統組成：該系統主要由真空抽氣及測量系統、真空室系統、離子源接口、工件架系統、控制系統等組成。