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1006
214-1

條紋變像管電極退火爐

所屬分類
真空退火爐
條紋變像管電極退火爐技術(shù)協(xié)議一、用途:1、用于真空電子器件的真空除氣處理及焊接;2、在高真空中進(jìn)行特殊封接工藝等處理。二、技術(shù)規(guī)格及要求:????1、工位及結(jié)構(gòu):?jiǎn)喂の弧⒘⑹讲讳P鋼雙層水冷結(jié)構(gòu),下蓋電動(dòng)升降裝樣;2、控制方式:自動(dòng)/手動(dòng);3、抽速:分子泵正常工作后40分鐘內(nèi),爐內(nèi)的真空度要求達(dá)到10-3~10-4pa;4、系統(tǒng)漏率:1×10-7PaL/s(氦質(zhì)譜檢漏儀);5、真空泵組由進(jìn)口干泵系統(tǒng)
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214-1
產(chǎn)品描述
參數(shù)

條紋變像管電極退火爐技術(shù)協(xié)議

一、用途:

1、用于真空電子器件的真空除氣處理及焊接;

2、在高真空中進(jìn)行特殊封接工藝等處理。

二、技術(shù)規(guī)格及要求:    

1、工位及結(jié)構(gòu):?jiǎn)喂の弧⒘⑹讲讳P鋼雙層水冷結(jié)構(gòu),下蓋電動(dòng)升降裝樣;

2、控制方式:自動(dòng)/手動(dòng);

3、抽速:分子泵正常工作后40分鐘內(nèi),爐內(nèi)的真空度要求達(dá)到10-3~10-4pa;

4、系統(tǒng)漏率:1×10-7PaL/s(氦質(zhì)譜檢漏儀);

5、真空泵組由進(jìn)口干泵系統(tǒng)和分子泵系統(tǒng)組成,泵組噪音不能高于40分貝;

6、最高加熱溫度:1300℃,常用溫度500℃~1200℃;溫度均勻性±3℃,控溫精度:±1℃;

7、爐內(nèi)容積:φ400×500mm;

8、加熱方式采用三區(qū)加熱、獨(dú)立測(cè)溫控溫方式,PID智能溫控儀程序控溫;采用低電壓大電流加熱電源,電壓低于45V;

9、設(shè)備配有至少2路充氣閥,通過(guò)充氣閥將氮?dú)馔ㄈ胝婵帐?,使真空室快速降溫?/span>

10、設(shè)備結(jié)構(gòu)形式:真空室以及加熱體固定不動(dòng),下底盤以及載物臺(tái)升降;

11、設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊、布局合理、外形美觀、便于操作維護(hù);

12、系統(tǒng)應(yīng)采用觸摸屏(12寸)+PLC控制方式,自帶軟件,可以設(shè)定并實(shí)時(shí)顯示過(guò)程中的溫度、真空度等參數(shù)。工藝參數(shù)結(jié)果可以輸出到Windows Office軟件中。

13、在抽氣過(guò)程中,如系統(tǒng)突然暴露大氣,應(yīng)能處于保護(hù)狀態(tài), 避免部件的損壞。停電停水、以及系統(tǒng)不能維持真空狀態(tài),設(shè)備帶有保護(hù)裝置, 整個(gè)系統(tǒng)連鎖保護(hù)。

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