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229

DLC沉積注入系統

所屬分類(lèi)
沉積注入設備
一、系統技術(shù)指標:1、真空系統:1.1、采用真空泵作為真空獲得系統,由兩級泵設計,分別為北京信誠智尚4200/s分子泵+TRP-90北京優(yōu)成機械泵;1.2、真空腔的極限真空度要求優(yōu)于1.0×10-4Pa;泄露小于6.7×10-7PaL/S;要求從大氣到1.0x10-3Pa時(shí)間優(yōu)于30分鐘;1.3、真空機組由甲方采購。2、真空腔體:2.1、主體:壁厚6mm,材質(zhì)為304不銹鋼,內腔凈尺寸Ф600X5
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產(chǎn)品描述
參數

一、系統技術(shù)指標:

1、真空系統:

1.1、采用真空泵作為真空獲得系統,由兩級泵設計,分別為北京信誠智尚4200/s分子泵+ TRP-90北京優(yōu)成機械泵;

1.2、真空腔的極限真空度要求優(yōu)于1.0×10-4Pa;泄露小于6.7×10-7PaL/S;

要求從大氣到1.0x10-3Pa時(shí)間優(yōu)于30分鐘;

1.3、真空機組由甲方采購。

2、真空腔體:

2.1、主體:壁厚6mm,材質(zhì)為304不銹鋼,內腔凈尺寸Ф600X500mm圓柱水冷真空室;

2.2、腔體進(jìn)行拋光處理和應力處理,保證3年內真空室主體無(wú)變形,無(wú)泄露;

2.3  要求真空室與地絕緣。

3、MEVVA源:

3.1、 要求MEVVA源與真空室絕緣;

3.2、 要求MEVVA源與真空室通過(guò)氣動(dòng)閥連接;

3.3、MEVVA源由甲方自備。

4、脈沖磁過(guò)濾等離子源:

4.1、要求脈沖磁過(guò)濾等離子源與真空室絕緣;

4.2、脈沖磁過(guò)濾等離子源由甲方自備。

5、工件架:

5.1、共三種樣品架;分別為柱狀樣品架、盤(pán)狀樣品架和球狀樣品架,每種樣品架加工兩套;;

5.2、樣品架每次可安裝8個(gè)樣品,樣品與樣品直徑的距離100mm,離源口最近的樣品與源口

的距離為100mm;

5.3、樣品具有自轉和公轉功能,并且帶有剎車(chē)裝置,通過(guò)雙芯磁流體進(jìn)行傳動(dòng)和密封;

5.4、要求每個(gè)樣品相MEVVA源和脈沖磁過(guò)濾等離子源都有定位和轉動(dòng)功能;

5.5、要求樣品架與地絕緣,耐壓值≥1KV。

6、設計系統具有有斷水報警,切斷相應電源功能。

二、系統組成:

    該系統主要由真空抽氣及真空測量系統、真空室系統、工件架系統、源MEVVA源系統、脈沖磁過(guò)濾等離子系統、紅外測溫系統、電器控制系統、輔助系統等組成。

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