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YJ-Ⅰ 真空陰極轉移系統

所屬分類(lèi)
陰極制備設備
一、主要用途:  用于半導體行業(yè)陰極的制備與封接。二、技術(shù)指標:  1.極限真空度:6.67×10-7Pa;  2.烘烤溫度:陰極室烘烤300℃;壓封室烘烤300℃;管殼室烘烤400℃;  3.尺寸:陰極室Φ150×200(mm);壓封室Φ150×300(mm);管殼室Φ100×250(mm)。三、系統組成:  主要由陰極室系統、壓封室系統、管殼室系統、樣品傳遞機構系統、加壓機構系統、內外烘烤及照
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產(chǎn)品描述
參數

一、主要用途:
  用于半導體行業(yè)陰極的制備與封接。
二、技術(shù)指標:
  1
.極限真空度:6.67×10-7Pa;
  2.烘烤溫度:陰極室烘烤300℃;壓封室烘烤300℃;管殼室烘烤400℃;
  3.尺寸:陰極室Φ150×200(mm);壓封室Φ150×300(mm);管殼室Φ100×250(mm)。
三、系統組成:
  主要由陰極室系統、壓封室系統、管殼室系統、樣品傳遞機構系統、加壓機構系統、內外烘烤及照明系統等組成。

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