自加熱超導薄膜系統
自加熱超導薄膜系統
一、設備用途：
在低真空條件下，通過(guò)自加熱方式對基帶進(jìn)行加熱，并通入工藝氣體，在基帶收放過(guò)程中對基帶表面進(jìn)行鍍膜。
二、技術(shù)指標：
1、整體結構：
采用直線(xiàn)排布結構，詳細排布見(jiàn)下圖。
設備兩端分別為兩個(gè)輔助加熱室（反應室一、反應室八），收放卷之間通過(guò)八個(gè)獨立的工藝反應室進(jìn)行連接，每個(gè)真空室有獨立的抽氣管道；
在反應室一、反應室八中各有兩個(gè)加熱電極輪，兩個(gè)電極輪呈上下排布，上面的為主加熱電極輪，下面的為輔助加熱電極輪，反應室一、八中的主加熱輪組件與基帶以及電源系統構成主加熱回路，反應室一中的主加熱輪組件、輔助加熱輪組件、基帶以及輔助加熱電源系統構成輔助加熱回路，反應室八中的主加熱輪組件、輔助加熱輪組件、基帶以及輔助加熱電源系統構成輔助加熱回路；
基帶水平運動(dòng)，反應室一與反應室二直接連接，反應室七與反應室八通過(guò)短波紋管連接；
氣氛通過(guò)流量計分別進(jìn)入八個(gè)反應室中，通過(guò)流量計對進(jìn)入反應室的流量進(jìn)行調節；
反應室和收放卷室帶有獨立的臺架支撐系統；
設備帶有計算機控制系統，進(jìn)行收放卷控制、加熱控制、壓力控制等。
2、抽氣系統：
2.1、系統真空度能達到1Pa以下；
2.2、采用直連式機械泵和羅茨泵抽氣機組；
2.3、抽氣能力要達到300L/S以上(以6米長(cháng)爐子計)；
2.4、采用大管徑抽氣管路對各個(gè)腔室進(jìn)行抽真空，大管徑抽氣管路提供了大的流導，使管路長(cháng)度等因素對抽速的影響大大降低，保證了抽氣的均衡性。
3、自加熱系統：
主要由基帶主加熱系統和輔助加熱系統組成：
3.1、基帶主自加熱溫度>900℃；輔助加熱系統溫度為：室溫～700℃。
3.2、自加熱溫度曲線(xiàn)分為三部分：升溫、保溫、降溫。升溫速率為100℃～1000℃/分鐘，可調，達到保溫溫度；保溫時(shí)間約60分鐘；降溫；
3.3、基帶采取前期和后期輔助加熱方式，防止溫度突變。
4、基帶收放系統：
4.1、卷對卷系統要張力穩定可控，可實(shí)現<1Kg張力的穩定控制；
4.2、卷對卷要能保證穩定不跑偏，實(shí)現1000米順利走帶。
5、氣氛系統：
5.1、系統工作壓力為20Pa～2Kpa；
5.2、系統工作壓力的調整可采取薄膜壓力計和可控門(mén)閥進(jìn)行自動(dòng)閉環(huán)控制；
5.3、要分段進(jìn)氣，保證氣體基本均勻且垂直帶子方向流過(guò)帶子表面；這要保證每段進(jìn)氣基本平衡且每段進(jìn)氣內部也要平衡，例如段內可以采用多孔結構；
5.4、工作氣氛分為干式、濕式兩種；干式氣氛為氧氣和氮氣混合氣體；濕式氣氛為水汽、氧氣、氮氣混合氣體。干式、濕式氣氛都通過(guò)流量計精確控制工藝氣體流入量，并且在進(jìn)入工藝反應室前混合均勻；
5.5、濕式氣氛：氧氣總流量為0～1L/min；N2總流量:0～10L/min； 水汽總流量：0～1L/min；每路混合氣體流量為0～2L/min；
干式氣氛：每路氧氣流量為0～200ml/min； 每路N2流量:0～2L/min。
6、設備采用計算機控制系統，實(shí)現設備工作工藝的自動(dòng)化。
7、設備帶有斷水斷電以及誤操作聯(lián)鎖保護裝置。
8、實(shí)驗室自備冷卻水系統。
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