高溫晶化爐真空抽氣系統和收放卷系統
一、設備用途：
在低真空條件下，通過(guò)外加熱方式對基帶進(jìn)行加熱，并通入工藝氣體，在基帶收放過(guò)程中對基帶表面進(jìn)行鍍膜。
二、技術(shù)指標：
1、整體結構：
采用直線(xiàn)排布結構，詳細排布見(jiàn)下圖。
設備兩端分別為收、放卷室，收、放卷室之間通過(guò)反應室以及過(guò)渡段進(jìn)行連接，收卷室、放卷室各有一路獨立的抽氣支管道，反應室部分有八路抽氣支管道，上述各抽氣支管路并行連接到抽氣主管路上，抽氣主管路與真空機組相連；
收放卷室帶有獨立的臺架支撐系統；
該合同負責的部分帶有計算機控制系統，進(jìn)行收放卷控制、壓力控制、真空抽氣控制、真空檢測等。
2、抽氣系統：
2.1、系統真空度能達到5Pa以下；
2.2、采用機械泵和羅茨泵抽氣機組；
2.3、爐膛工作壓力：50～400Pa可調；
2.4、采用大管徑抽氣管路對各個(gè)腔室進(jìn)行抽真空，大管徑抽氣管路提供了大的流導，使管路長(cháng)度等因素對抽速的影響大大降低，保證了抽氣的均衡性。
3、基帶收放系統：
3.1、卷對卷系統要張力穩定可控，可實(shí)現張力0.5Kg～1.5Kg間可控；
3.2、卷對卷要能保證穩定不跑偏，實(shí)現1000米順利走帶；
3.3、基帶速度為：4米/小時(shí)～40米/小時(shí)，均勻可調。
4、真空抽氣及測量、壓力控制、收放卷系統采用計算機控制。
5、實(shí)驗室自備冷卻水系統。
三、設備實(shí)施方案以及組成：
高溫爐真空抽氣和收放卷系統主要由收放卷室系統、真空獲取系統、基帶收放系統、控制系統、輔助系統等組成。
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