產(chǎn)品介紹
PRODUCTS
金屬有機化學(xué)氣相沉積系統
所屬分類(lèi)
化學(xué)氣相沉積設備 (CVD)
產(chǎn)品描述
參數
一、主要用途:
金屬有機化學(xué)氣相沉積系統主要用于金屬氫化物薄膜的制備。
二、技術(shù)指標:
1. 尺寸:真空室直徑約400mm,高度約450mm,材料:不銹鋼;
2. 真空度:背景真空8.0×10-6Pa,漏率為:1.0×10-7PaL/s;
3.真空室壓力調節范圍0.1Pa~500Pa,精度±1%; 等離子體產(chǎn)生方式為RF射頻電感耦合放電,頻率13.56MHz,功率0~500W連續可調;
4. 襯底可以旋轉和控溫,旋轉速率0~60rpm連續可調,旋轉平穩度好,最高溫度800℃,控溫精度±1K,襯底盤(pán)直徑80mm,在軸線(xiàn)方向位 置可調,距離真空室頂部50mm~150mm;
5. 烘烤照明:采用碘鎢燈加熱烘烤方式,對真空室進(jìn)行烘烤除氣,也可以當作照明用,加熱溫度為室溫至200度,程序控溫;
6. MO蒸氣采用兩處進(jìn)氣的方式,其一,從等離子體產(chǎn)生室頂部進(jìn)氣,其出口在石英腔中的位置可以調整,其二,從真空室側面進(jìn)氣送入等離子體區域離化反應。
三、系統組成:
主要由配氣系統、真空室及真空系統、控制系統三部分組成。
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上一個(gè)
微波等離子體(BEH2,BED2制備系統)
下一個(gè)
小型MOCVD低溫鍍膜設備
產(chǎn)品展示

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