產(chǎn)品介紹
PRODUCTS
單室電子束蒸發(fā)系統
所屬分類(lèi)
蒸發(fā)鍍膜系統
產(chǎn)品描述
參數
單室電子束蒸發(fā)系統技術(shù)協(xié)議
一、設備目的：
設備用于制備高純度、高精度半導體薄膜，導電薄膜、鐵電薄膜及光學(xué)薄膜等。
二、技術(shù)要求：
1、鍍膜室：鍍膜腔室尺寸約為Φ400*820mm（以實(shí)際設計為準），不銹鋼材料，圓柱形結構，真空室上鉸鏈方門(mén)結構，真空室帶有水冷。
2、抽氣系統：采用分子泵+干泵抽氣系統。（甲方自備）
2.1、真空度：鍍膜室的極限真空≤6.7×10-5Pa；達到工作壓強時(shí)間：從一個(gè)大氣壓（充入干燥氮氣，不打開(kāi)真空室）至6.7×10-4Pa≤90min；
2.2、系統漏率≤6.7×10-7Pa·L/s；
2.3、真空室帶有旁抽功能；
3、電子槍系統：
坩堝及轉位四穴、環(huán)形；功率10Kw；270°；XY掃描；10ml；水冷；電子蒸發(fā)速率可控；
4、樣品架系統：
4.1、樣品架可放置3英寸的樣品；
4.2、樣品架可旋轉，旋轉速度為：1～50轉/分可調；
4.3、樣品可加熱，加熱溫度為：室溫～600℃可控；
4.4、樣品臺可上下移動(dòng)，與電子槍坩堝距離200-300mm與350-450之間可調；
4.5、樣品與水平方向成30度角，樣品調整結構為豎直方向；
4.6、安裝：樣品安裝在真空室的上蓋上，蒸發(fā)源安裝在真空室的下蓋上，向上蒸發(fā)鍍膜。
5、設備帶有進(jìn)口英富康高精度單探頭膜厚測試儀安裝接口CF35，帶氣動(dòng)擋板。
6、設備帶有斷水斷電連鎖保護報警裝置、防誤操作保護報警裝置。
7. 實(shí)驗室應配有冷卻循環(huán)水機，為真空泵、真空室、膜厚測試儀冷卻。
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