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磁過(guò)濾葉盤(pán)專(zhuān)用處理復合設備
設備照片+水印
設備照片+水印01

磁過(guò)濾葉盤(pán)專(zhuān)用處理復合設備

所屬分類(lèi)
沉積注入設備
技術(shù)要求及指標:1、真空系統:1.1、系統極限真空度優(yōu)于2.0×10-4Pa,系統漏率優(yōu)于6.7×10-7Pa·L/s;1.2、分子泵正常工作20分鐘后,真空度要求達到:3×10-3Pa;2、真空腔體:2.1、內腔凈尺寸SФ600球型真空室,材質(zhì)為304不銹鋼(帶水冷);2.2、前開(kāi)門(mén)結構,方便取放樣品;3、MEVVA源(共兩套);4、脈沖磁過(guò)濾等離子源(共三套);5、工件架:5.1、共有一套樣品架,樣品為葉片樣品,一次只安裝一個(gè);?5.2、樣品具有自轉功能,通過(guò)磁流體進(jìn)行傳動(dòng)和密封,自轉速度:0~200轉/分,伺服電機控制;?5.3、樣品需要加熱,樣品對面和底部有鎧裝加熱盤(pán),程序控溫,PID調節。6、氣路系統:三路進(jìn)氣,采用質(zhì)量流量控制器控制。7、設計系統具有斷水報警,切斷相應電源功能。8、系統帶有計算機控制系統,主要控制:8.1、真空度的采集;8.2、樣品的自轉控制;8.3、樣品的加熱控制;8.4、氣體流量的采集和控制;8.5、泵、閥門(mén)的控制等;8.6、弧源、偏轉電源、偏壓電源、弧頭磁場(chǎng)電源、MEVVA源電源和靶負壓電源的供電控制;8.7、系統具有樣品超溫、斷水報警保護功能。
設備照片+水印
設備照片+水印01
產(chǎn)品描述
參數
技術(shù)要求及指標:
1、真空系統:
1.1、系統極限真空度優(yōu)于2.0×10-4Pa,系統漏率優(yōu)于6.7×10-7Pa·L/s;
1.2、分子泵正常工作20分鐘后,真空度要求達到:3×10-3Pa;
2、真空腔體:
2.1、內腔凈尺寸SФ600球型真空室,材質(zhì)為304不銹鋼(帶水冷);
2.2、前開(kāi)門(mén)結構,方便取放樣品;
3、MEVVA源(共兩套);
4、脈沖磁過(guò)濾等離子源(共三套);
5、工件架:
5.1、共有一套樣品架,樣品為葉片樣品,一次只安裝一個(gè); 
5.2、樣品具有自轉功能,通過(guò)磁流體進(jìn)行傳動(dòng)和密封,自轉速度:0~200轉/分,伺服電機控制; 
5.3、樣品需要加熱,樣品對面和底部有鎧裝加熱盤(pán),程序控溫,PID調節。
6、氣路系統:
三路進(jìn)氣,采用質(zhì)量流量控制器控制。
7、設計系統具有斷水報警,切斷相應電源功能。
8、系統帶有計算機控制系統,主要控制:
8.1、真空度的采集;
8.2、樣品的自轉控制;
8.3、樣品的加熱控制;
8.4、氣體流量的采集和控制;
8.5、泵、閥門(mén)的控制等;
8.6、弧源、偏轉電源、偏壓電源、弧頭磁場(chǎng)電源、MEVVA源電源和靶負壓電源的供電控制;
8.7、系統具有樣品超溫、斷水報警保護功能。
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