產(chǎn)品介紹
PRODUCTS
金屬基帶加熱系統
所屬分類(lèi)
化學(xué)氣相沉積設備 (CVD)
產(chǎn)品描述
參數
主要技術(shù)指標:
1、真空抽氣系統:
系統極限真空度能達到1Pa以下;當僅機械泵工作時(shí),極限真空度小于5Pa;
采用兩套真空機組作為真空抽氣系統,可單獨控制壓力,兩個(gè)管道相互隔離。
抽氣能力達到600L/S以上;
2、加熱控制系統:
基帶加熱溫度小于850℃;
加熱區分為升溫、保溫及降溫區;
溫度控制精度為±1℃;
保溫區沿走帶方向不大于±3℃溫度偏差;
測溫模塊方便測量腔室空間內實(shí)際溫度;
在使用保溫工藝時(shí)總功率不大于40KW;
3、基帶收、放系統:
卷繞系統分為兩種模式:兩套模式各自單獨控制,運動(dòng)過(guò)程中相互不干涉。
卷對卷系統張力穩定可控,可實(shí)現小于1Kg張力的穩定控制;
卷對卷保證穩定不跑偏,實(shí)現1000米順利走帶。
4、氣氛系統:
系統工作壓力為20Pa~1KPa;
系統工作壓力采用手動(dòng)調節電動(dòng)碟閥開(kāi)合位置來(lái)控制;
工作氣氛:分為干式、濕式兩種;
5、設備采用計算機作為人機界面對加熱系統、走帶系統、真空系統等進(jìn)行手動(dòng)遠程控制;
6、設備帶有斷水斷電以及誤操作聯(lián)鎖保護裝置;
7、設備帶有安全防護系統。
二、系統組成
金屬基帶加熱爐系統主要由反應腔室系統、真空抽氣系統、基帶加熱系統、基帶收放系統、氣氛系統、控制系統、輔助系統等組成。
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產(chǎn)品展示

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