產(chǎn)品介紹
PRODUCTS
離子注入實(shí)驗系統
所屬分類(lèi)
等離子體研究設備
產(chǎn)品描述
參數
一、技術(shù)指標:
系統整體漏率≤1×10-7Pa•L/s。
系統工作真空度要求分別為:
真空配氣系統工作真空度(室溫)要求≤ 1×10-6Pa,除氣時(shí)間≤24h;
樣品傳送回收系統工作真空度要求≤5×10-4Pa,除氣時(shí)間≤3h;
真空靶室系統工作真空度(室溫)要求≤1×10-6Pa,除氣時(shí)間≤24h;
分子泵機組系統工作真空度要求≤ 5×10-4Pa,除氣時(shí)間≤3h。
二、系統組成:
離子注入實(shí)驗系統主要由真空配氣系統、樣品傳送回收系統、真空靶室系統、分子泵機組系統、外部支撐臺架系統、電控系統及輔助系統等組成。
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強碰撞高密度等離子體實(shí)驗裝置
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負離子源真空腔室與功能集成系統
產(chǎn)品展示

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