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磁控濺射鍍膜系統

本系統為單靶強磁磁控濺射鍍膜設備,用于對細長(cháng)型陶瓷端面鍍制金屬薄膜,靶材可以為磁性材料。
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產(chǎn)品描述
參數

主要技術(shù)性能指標:

1、雙室結構:包括磁控濺射鍍膜室和細長(cháng)樣品傳動(dòng)室組成;

2、與原磁控濺射鍍膜系統的正后方烘烤燈安裝法蘭連接,利用原真空機組及測量系統;

3、系統漏率:小于1×10~PaL/S;

4、濺射靶:有效尺寸4英寸,數量1支,超真空真空高場(chǎng)強電磁靶,水冷結構;

5、磁控靶調節系統:手動(dòng)連續調節,帶刻度指示,靶基距60±30mm;

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