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產(chǎn)品介紹
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TA23-07D

超高真空磁控濺射設備

所屬分類(lèi)
磁控濺射鍍膜系統
1、真空獲得及測量系統 1.1、系統工作真空度：≤6×10-5Pa（由甲方負責）； 1.2、系統真空漏率：≤1.0×10-7Pa?L/s（由乙方負責）； 1.3、系統采用分子泵+干泵組成真空抽氣機組，分子泵及前級干泵由甲方自備； 1.4、真空測量采用全量程真空計進(jìn)行測量。
TA23-07D
產(chǎn)品描述
參數

1、真空獲得及測量系統
1.1、系統工作真空度：≤6×10-5Pa（由甲方負責）；
1.2、系統真空漏率：≤1.0×10-7Pa•L/s（由乙方負責）；
1.3、系統采用分子泵+干泵組成真空抽氣機組，分子泵及前級干泵由甲方自備；
1.4、真空測量采用全量程真空計進(jìn)行測量。

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