服務(wù)熱線(xiàn):

產(chǎn)品介紹
PRODUCTS
TA22-12D

多功能物理氣相沉積設備

所屬分類(lèi)
磁控濺射鍍膜系統
TA22-12D
產(chǎn)品描述
參數

設備具備真空度高、系統漏放率低、自動(dòng)化程度高、操作方便等特點(diǎn),可實(shí)現管材、片材、塊材的表面金屬薄膜、陶瓷薄膜、多層交替薄膜和多組分混合薄膜的制備,設備能滿(mǎn)足薄膜均勻性、致密性及結合強度的要求,具備高質(zhì)量、長(cháng)時(shí)間、自動(dòng)化的穩定鍍膜能力。

掃二維碼用手機看
未找到相應參數組,請于后臺屬性模板中添加

產(chǎn)品展示

高溫化學(xué)氣相沉積系統
更多 白箭頭 黑箭頭
磁控濺射真空室
更多 白箭頭 黑箭頭
微小靶腔常溫檢漏裝置
更多 白箭頭 黑箭頭
相容性試驗系統
更多 白箭頭 黑箭頭

Copyright ? 2022 沈陽(yáng)騰鰲真空技術(shù)有限公司 All Rights Reserved

img

手機二維碼

黄片无码在线观看_亚洲AV无码专区A片波霸影院_性爱AV在线_成人播放器