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產(chǎn)品介紹
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高溫真空排氣臺

所屬分類(lèi)
真空排氣臺設備
TAPQ–GW高溫真空排氣臺一、主要用途:  系統針對覆蓋10-6Pa~0.1MPa的壓力范圍內的應用需求。實(shí)現超高真空條件下的壓力精確測量,可進(jìn)行超高真空條件下的氣固原位反應研究。二、技術(shù)指標:  1.工作壓力范圍:10-6Pa~0.1Mpa,真空漏率≤10-9Pa?M3/S;  2.標準容器:50ml、500ml、1000ml、5000ml的球型容器各一個(gè);  3.化學(xué)床溫度控制:工作溫度范圍
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產(chǎn)品描述
參數

TAPQ–GW 高溫真空排氣臺

一、主要用途:
  系統針對覆蓋10-6Pa~0.1MPa的壓力范圍內的應用需求。實(shí)現超高真空條件下的壓力精確測量,可進(jìn)行超高真空條件下的氣固原位反應研究。
二、技術(shù)指標:
  1.工作壓力范圍:10-6Pa~0.1Mpa,真空漏率≤10-9Pa•M3/S;
  2.標準容器:50ml、500ml、1000ml、5000ml的球型容器各一個(gè);
  3.化學(xué)床溫度控制:工作溫度范圍為室溫~1100℃,溫度控制精度為±5℃;加熱速率5~50k/min,可調。
三、系統組成:
  主要由真空抽氣系統、壓力測量系統、標準容器、加熱爐、電控及計算機控制系統等組成。

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