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4GW四工位真空高壓排（充）氣臺

所屬分類(lèi)
真空排氣臺設備
TAPQ--4GW四工位真空高壓排（充）氣臺一、主要用途：　　該系統主要針對0.01Pa～40MPa壓力范圍內實(shí)驗研究，完成樣品增壓、反應器加熱、流量控制、壓力和溫度測量?？蛇M(jìn)行氣—固反應研究。二、技術(shù)指標：1．工作壓力范圍：10-2Pa～35MPa；2．標準容器：50ml、500ml、1000ml、5000ml的球型容器各一個(gè)；3.氣密性指標：真空漏率≤10-9Pa?M3/S；40MPa壓力He
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產(chǎn)品描述
參數

TAPQ- -4GW四工位真空高壓排（充）氣臺

一、主要用途：
　　該系統主要針對0.01Pa～40MPa壓力范圍內實(shí)驗研究，完成樣品增壓、反應器加熱、流量控制、壓力和溫度測量?？蛇M(jìn)行氣—固反應研究。
二、技術(shù)指標：
1．工作壓力范圍：10-2Pa～35MPa；
2．標準容器：50ml、500ml、1000ml、5000ml的球型容器各一個(gè)；

3. 氣密性指標：真空漏率≤10-9Pa•M3/S；40MPa壓力He質(zhì)譜檢漏的漏率≤10-9Pa•M3/S；

4．化學(xué)床溫度控制：工作溫度范圍為室溫～1100℃，溫度控制精度為±5℃；加熱速率5～50k/min，可調。
三、系統組成：
　　主要由真空抽氣系統、壓力測量系統、標準容器、加熱爐、電控及計算機控制系統等組成。

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