PQ –Ⅱ 單孔位波紋陶瓷管超高真空排氣臺
一、主要用途:本設備主要用于波紋陶瓷結構射線(xiàn)管的排氣。
二、技術(shù)指標:
1. 外真空室內尺寸:Φ500mm×592mm;
2. 極限真空度:
波紋陶瓷結構射線(xiàn)管內真空度:7.0×10-8Pa;
雙層水冷可電動(dòng)升降不銹鋼鐘罩式烘烤真空室(外真空):5.0×10-3Pa;
3. 該系統采用雙真空抽氣方式,實(shí)現波紋陶瓷結構射線(xiàn)管內真空為超高真空,外真空為高真空及烘烤加熱除氣;
4. 外真空室采用雙層水冷電動(dòng)升降鐘罩式結構,采用放氣量小的不銹鋼材料;
5. 波紋陶瓷結構射線(xiàn)管立式(陽(yáng)極在上)置于外真空室內部,采用下支撐、下排氣的支撐和抽氣方式;
6. 管殼最高加熱烘烤溫度為650℃,控溫精度±1℃,加熱電源帶有溫控儀表,30段,程序控溫;
7. 真空管的排氣容積2000mL,輪廓尺寸Φ180×400mm;
8. 放氣要有過(guò)濾裝置,防止不潔氣體污染真空系統。
三、系統組成:本裝置主要由真空抽氣及測量系統、抽氣管道及烘烤系統、外真空室及升降系統、加熱及控溫系統、電器控制系統和輔助系統等組成。
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