PQ –Ⅱ 單孔位波紋陶瓷管超高真空排氣臺
一、主要用途：本設備主要用于波紋陶瓷結構射線(xiàn)管的排氣。
二、技術(shù)指標：
1. 外真空室內尺寸：Φ500mm×592mm；
2. 極限真空度：
波紋陶瓷結構射線(xiàn)管內真空度：7.0×10-8Pa；
雙層水冷可電動(dòng)升降不銹鋼鐘罩式烘烤真空室（外真空）：5.0×10-3Pa；
3. 該系統采用雙真空抽氣方式，實(shí)現波紋陶瓷結構射線(xiàn)管內真空為超高真空，外真空為高真空及烘烤加熱除氣；
4. 外真空室采用雙層水冷電動(dòng)升降鐘罩式結構，采用放氣量小的不銹鋼材料；
5. 波紋陶瓷結構射線(xiàn)管立式（陽(yáng)極在上）置于外真空室內部，采用下支撐、下排氣的支撐和抽氣方式；
6. 管殼最高加熱烘烤溫度為650℃，控溫精度±1℃，加熱電源帶有溫控儀表，30段，程序控溫；
7. 真空管的排氣容積2000mL，輪廓尺寸Φ180×400mm；
8. 放氣要有過(guò)濾裝置，防止不潔氣體污染真空系統。
三、系統組成：本裝置主要由真空抽氣及測量系統、抽氣管道及烘烤系統、外真空室及升降系統、加熱及控溫系統、電器控制系統和輔助系統等組成。
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