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產(chǎn)品介紹
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79
245-1

MOCVD系統

所屬分類(lèi)
MOCVD
一、主要用途：???金屬有機化學(xué)氣相沉積系統主要用于金屬氫化物薄膜的制備。二、技術(shù)指標：?1、真空室極限真空8.0×10-6Pa，其抽速應達到3小時(shí)抽到1.0×10-4Pa，漏率為：1.0×10-7PaL/s；?2、真空室壓力調節范圍0.1Pa～500Pa，精度±1％；?3、襯底可以旋轉和控溫，旋轉速率0～60rpm連續可調，旋轉平穩度好，最高溫度800℃，控溫精度±1K；?4、一路載氣，流量量程
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產(chǎn)品描述
參數

一、主要用途：
    金屬有機化學(xué)氣相沉積系統主要用于金屬氫化物薄膜的制備。

二、技術(shù)指標：

  1、真空室極限真空8.0×10-6Pa，其抽速應達到3小時(shí)抽到1.0×10-4Pa，漏率為：1.0×10-7PaL/s；

  2、真空室壓力調節范圍0.1Pa～500Pa，精度±1％；

  3、襯底可以旋轉和控溫，旋轉速率0～60rpm連續可調，旋轉平穩度好，最高溫度800℃，控溫精度±1K；

  4、一路載氣，流量量程100sccm，三路金屬有機物配氣氣路量程分別為100sccm、50sccm、10sccm，流量精度 ±1％，可重復性±0.25％。壓力控制器控制范圍10Pa～1000Pa，精度±0.25％，響應時(shí)間小于20ms。溫度控制范圍：25℃～200℃，控溫精度±0.1K。氣路漏率小于5×10－9PaL/s。

三、主要組成：

    金屬有機化學(xué)氣相沉積系統主要由配氣系統、真空室及真空系統、控制系統三部分組成。

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