等離子體滲氮實(shí)驗爐
一、主要用途：保密。
二 、技術(shù)指標：
1、真空室采用不銹鋼立式鐘罩式結構，真空室內徑尺寸為Ф400×450mm；真空室上部設置Ф200預留法蘭；
2、系統極限真空度優(yōu)于5×10-6Pa，工作前的靜真空5×10-5Pa；設備總漏率小于10-7Pa.L/S，恢復真空時(shí)間小于3小時(shí)；
3、配備4kW的加熱電源及溫度控制器一套，對真空室進(jìn)行加熱控溫，配置鎧裝熱電偶對真空室溫度進(jìn)行測量，測溫最高加熱溫度300℃±1℃；
4、樣品尺寸為：Ф8～Ф30mm不等；
5、樣品可加熱溫度為：室溫～500℃，測溫探頭置于樣品臺陶瓷板預留孔內，控溫精度為：±1℃；程序控溫，PID調解，可設可控；
6、10 kW中頻脈沖偏壓電源一套，頻率30-60kHz，占空比10-80%可調，最大電壓3kV，電壓可調；電源具有過(guò)流、過(guò)熱、缺水、打火保護及自動(dòng)滅弧功能；
7、射頻電源，功率要求為2kW，通過(guò)射頻引入極引入真空室，射頻電源配置自匹配控制調節裝置；
8、真空供氣系統由三路質(zhì)量流量計組成。供氣系統三路進(jìn)氣，可實(shí)現不同氣體按比例供給，進(jìn)入真空室前混合充分；進(jìn)氣口設置為環(huán)真空室頂部，確保進(jìn)氣均勻；
9、設備具有斷水斷電聯(lián)鎖保護功能；
10、射頻電極靶靶面水冷均勻，液氮冷阱確保使用方便安全；
三、系統組成：
該系統主要由真空室系統、加熱及控制系統、氣體控制系統、電控系統、報警系統、臺架系統等組成。
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