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ZF- 450Ⅰ 蒸發(fā)鍍膜系統（光學(xué)鍍膜）

所屬分類(lèi)
蒸發(fā)鍍膜系統
一、系統用途：保密。二、技術(shù)指標：?1、極限真空度：8×10-6Pa；系統漏率：6.7×10-7Pa.L/S；?2、蒸發(fā)源：2個(gè)，采用電阻蒸發(fā)舟的方式，至下向上蒸發(fā)鍍膜。蒸發(fā)舟與樣呂之間的距離為150～200mm；?3、蒸發(fā)舟最高溫度為:室溫～800℃，控溫精度：±1℃；室溫～1300℃，控溫精度：±2℃；功率：1KW；?4、樣品尺寸：100×50×（1～2）（厚）毫米，每次只鍍一個(gè)樣品，樣品可旋
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產(chǎn)品描述
參數

一、系統用途：保密。

二、技術(shù)指標：

 1、極限真空度：8×10-6Pa；系統漏率：6. 7×10-7Pa.L/S；

 2、蒸發(fā)源：2個(gè)，采用電阻蒸發(fā)舟的方式，至下向上蒸發(fā)鍍膜。蒸發(fā)舟與樣呂之間的距離為150～200mm；

 3、蒸發(fā)舟最高溫度為:室溫～800℃，控溫精度：±1℃；室溫～1300℃，控溫精度：±2℃；功率：1KW；

 4、樣品尺寸：100×50×（1～2）（厚）毫米，每次只鍍一個(gè)樣品，樣品可旋轉加熱；

 5、保證膜的牢固度，樣品在蒸鍍過(guò)程中，要加熱到200℃（最高溫度）。

三、系統組成：

    主要由蒸發(fā)源及其電源、真空室、真空測量系統、真空抽氣系統、樣品臺及其擋板系統、控制單元等組成。

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