產(chǎn)品介紹
PRODUCTS
玻殼鍍膜裝置
所屬分類(lèi)
蒸發(fā)鍍膜系統
產(chǎn)品描述
參數
一、設備用途：
對光電倍增管（20英寸管殼）內表面上半球進(jìn)行鍍錳膜。
一次真空可蒸鍍兩個(gè)玻殼；
具體工藝流程和實(shí)驗由用戶(hù)根據工藝來(lái)進(jìn)行調整。
二、主要技術(shù)指標：
1、真空獲得系統：采用無(wú)油真空系統，分子泵+干泵抽氣系統；
1.1、系統極限真空度優(yōu)于2×10-5Pa；
1.2、工作真空度優(yōu)于8×10-4Pa，設備達到工作狀態(tài)后玻殼內真空度始終高于8×10-4Pa（鍍膜時(shí)除外）；
1.3、設備真空系統開(kāi)啟后20分鐘內真空度優(yōu)于5×10-3Pa（包含分子泵啟動(dòng)時(shí)間，在分子泵已啟動(dòng)情況下需小于15分鐘）；
1.4、 系統漏率≤6.7×10-7PaL/s；
2、進(jìn)氣系統：
2.1、2個(gè)手動(dòng)放氣閥，用于充入空氣或者空氣放氣（如氮氣放氣等）；
2.2、2個(gè)手動(dòng)微進(jìn)氣閥，保證可以通入微量氣體。
3、真空測量系統：
放置在抽氣管道上，用于檢測真空度；
3.1、數字顯示，實(shí)時(shí)監測；
3.2、真空計測量范圍為；5×105Pa～10-6Pa；
4、蒸發(fā)系統：
4.1、蒸發(fā)電極尺寸滿(mǎn)足玻殼需要，保證鍍膜均勻性；
4.2、蒸發(fā)電極可保證蒸鍍絕大多數金屬材料，蒸發(fā)電極溫度可達到1500℃；
4.3、蒸發(fā)電極位置可以調整；
4.4、蒸發(fā)源位置高度為玻殼赤道下方100mm處。
5、電控系統：通過(guò)電控柜面板手動(dòng)操作；實(shí)時(shí)控制，操作方便。
6、機架：機架要求穩定可靠，符合人體工程學(xué)設計，方便產(chǎn)品的安裝和卸載。
7、設備帶有斷水斷電連鎖保護報警裝置、防誤操作保護報警裝置。
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ZF-1000蒸發(fā)鍍膜機
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ZF- 550 電子束/熱蒸發(fā)真空鍍膜系統
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