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產(chǎn)品介紹
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4444

單靶磁控濺射鍍膜機

所屬分類(lèi)
磁控濺射鍍膜系統
主要技術(shù)指標：1.?靶基間距60mm～105mm可調，波紋管伸縮部件安裝標尺便于定位；2.?電子束蒸發(fā)，豎直向上。電子槍采用Mantis產(chǎn)品，法蘭盤(pán)距噴口200mm，靶基間距80～160mm；3.?襯底組件安裝法蘭口為CF100，襯底架能夠放置樣品托，能夠伸縮±20mm，便于交接樣品；4.?襯底旋轉（0-60轉/分）；襯底帶有手動(dòng)擋板，能夠擋住3英寸樣品；5.?最高加熱溫度800℃，控溫精度±2℃
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產(chǎn)品描述
參數

主要技術(shù)指標：

1. 靶基間距60mm～105mm可調，波紋管伸縮部件安裝標尺便于定位；

2. 電子束蒸發(fā)，豎直向上。電子槍采用Mantis產(chǎn)品，法蘭盤(pán)距噴口200mm，靶基間距80～160mm；

3. 襯底組件安裝法蘭口為CF100，襯底架能夠放置樣品托，能夠伸縮±20mm，便于交接樣品；

4. 襯底旋轉（0-60轉/分）；襯底帶有手動(dòng)擋板，能夠擋住3英寸樣品；

5. 最高加熱溫度800℃，控溫精度±2℃；

6. 設備具有斷水斷電連鎖保護報警裝置。

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