設備屬超高真空設備，具備極限真空高、系統漏放率低、自動(dòng)化程度較高、 操作方便、采用一體化設計等特點(diǎn)，能應用于特種材料表面金屬薄膜的制備，且能滿(mǎn)足薄膜致密性與結合強度的要求。 利用磁控濺射的方法，設備可完φ150mm~φ230mm左右曲面工件及φ 50mm～中60mm左右球形工件表面金屬及其化合物(A1Al/A1,0,)薄膜制備，薄 膜平均厚度8μm～10μm左右且色澤均勻、正常，要求在工件整個(gè)表面同時(shí)沉積 薄膜，支點(diǎn)自動(dòng)切換，薄膜與基體的結合力能經(jīng)受撕膠帶的考驗，鍍層厚度差異不大于30%。 真空室內空間布局合理，可實(shí)現高質(zhì)量長(cháng)時(shí)間穩定鍍膜。 提供薄膜制備基礎工藝，且能制備出滿(mǎn)足要求的薄膜。