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產(chǎn)品介紹
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44444

摻雜Be靶丸涂層裝置

所屬分類(lèi)
磁控濺射鍍膜系統
44444
產(chǎn)品描述
參數

1、預處理室系統

1.1、預處理室極限真空≤4.0×10-6 Pa,漏率低于1×10-8 Pa·L/s,保氣72 h真空度3.1×10-2 Pa。

1.2、真空機組采用德國萊寶分子泵+德國萊寶干泵+閘板閥。

1.3、真空測量采用成都睿寶復合真空計。

1.4、配置有鉸鏈開(kāi)門(mén)組件,并帶觀(guān)察窗,采用無(wú)氧銅金屬密封方式,CF150接口。

1.5、預處理室配置有樣品庫,樣品庫為八工位,配置樣品托八個(gè),樣品庫可上下升降,順?lè )葱D,保障順暢交接樣品。

1.6、預處理室上有CF35備用接口2個(gè)。

1.7、配置有一套碘鎢燈照明組件,以便觀(guān)察樣品交接。

1.8、預處理室采用外纏繞烘烤帶加熱除氣方式。

2、濺射室系統

2.1、濺射室極限真空度≤4.8×10-8 Pa,漏率低于1×10-8 Pa·L/s,保氣72 h真空度小于2.6×10-3 Pa。

2.2、真空機組采用德國萊寶分子泵+德國萊寶干泵+上海三井離子泵+瑞士VAT手動(dòng)閘板閥(接口CF150)。

2.3、真空測量采用德國萊寶復合真空計監測。

2.4、鍍膜時(shí)采用美國Inficon薄膜壓力計監測。

2.5、與真空室相連的各組件均帶防污措施。

2.6、涂層過(guò)程,靶材刻蝕、傳樣和換靶均能夠清晰觀(guān)測。

2.7、濺射室上配置有一個(gè)CF200的真空室維護法蘭。

2.8、腔室內置碘鎢燈照明,快插拔更換,帶旋轉保護罩,外置LED綠光應急照明。

2.9、濺射室上預留有CF35/CF63/CF100備用接口。

2.10、濺射室采用外纏繞烘烤帶加熱除氣方式。

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