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產(chǎn)品介紹
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磁控濺射鍍膜機設備

所屬分類(lèi)
磁控濺射鍍膜系統
一、主要技術(shù)要求： 1、真空度指標： 1.1、保證真空室極限真空度≤6.0×10-5 Pa。 1.2、系統漏率：≤5.0×10-8 PaL/S。 1.3、真空抽氣機組：采用分子泵作為主抽泵，機械泵作為前級泵，配有真空計、閥門(mén)以及管道，組成真空抽氣系統。 2、壓力控制：實(shí)現鍍膜過(guò)程中氣壓在0.1～3.0 Pa范圍內的有效調節。 3、磁控靶及電源系統：
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產(chǎn)品描述
參數

一、主要技術(shù)要求：

1、真空度指標：

1.1、保證真空室極限真空度≤6.0×10-5 Pa。

1.2、系統漏率：≤5.0×10-8 PaL/S。

1.3、真空抽氣機組：采用分子泵作為主抽泵，機械泵作為前級泵，配有真空計、閥門(mén)以及管道，組成真空抽氣系統。

2、壓力控制：實(shí)現鍍膜過(guò)程中氣壓在0.1～3.0 Pa范圍內的有效調節。

3、磁控靶及電源系統：

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